半導(dǎo)體產(chǎn)品清洗解決方案：清洗的好處有哪些，讓鯤鵬精密智能科技來(lái)給大家說(shuō)說(shuō)看吧

　　電子清洗技術(shù)(包括清洗劑和相應(yīng)的清洗工藝)對(duì)電子工業(yè)特別是半導(dǎo)體工業(yè)的生產(chǎn)非常重要。在半導(dǎo)體器件和集成電路的制造過(guò)程中，幾乎每一道工序都涉及清洗。集成電路的集成度越高，制造工序越多，需要清洗的工序也就越多。在很多清洗工藝中，只要有一道工藝不符合要求，就會(huì)放棄之前的工作，導(dǎo)致整批芯片報(bào)廢。

　　在芯片制造的過(guò)程中，需要專門的水來(lái)保證產(chǎn)品的清潔度，而生產(chǎn)后的清洗是保證良率非常重要的一點(diǎn)。

　　在晶圓生產(chǎn)的整個(gè)過(guò)程中，要進(jìn)行多次化學(xué)腐蝕和清洗。每一步蝕刻和清洗后，用水沖洗。由于半導(dǎo)體器件非常容易受到污染，因此必須對(duì)工藝水進(jìn)行相應(yīng)的處理，以達(dá)到一定程度的清潔度。

　　普通自來(lái)水中含有礦物質(zhì)、鹽類、有機(jī)化合物等，會(huì)對(duì)晶圓產(chǎn)生重大影響。

　　因此，通過(guò)反滲透和離子交換系統(tǒng)去除晶圓中使用的水。去除離子的水通常稱為去離子水。正常去離子水在室溫下的電阻為10兆歐，用紫外線去除水中的細(xì) 菌。

　　半導(dǎo)體清洗技術(shù)是指在氧化、光刻、外延、擴(kuò)散、鉛蒸發(fā)等半導(dǎo)體制造工藝之前，通過(guò)物理或化學(xué)方法去除污染物和自氧化物的過(guò)程。

　　污染物是半導(dǎo)體器件性能、可靠性和成品率的主要威脅。研究表明，高達(dá)80%的芯片電氣故障是由污染引起的缺陷造成的。

　　污染物通常以原子、離子、分子、粒子或膜的形式存在，通過(guò)化學(xué)或物理吸附存在于硅片表面或硅片氧化膜中。