ASM半導(dǎo)體設(shè)備售后及配件：國內(nèi)國外不同！鯤鵬精密智能科技和大家一起來了解看看吧！

　　在國內(nèi)市場方面，近年來，中國大力推進半導(dǎo)體國產(chǎn)化，半導(dǎo)體設(shè)備投資活躍，第二季度繼續(xù)位居世 界第 一。２０２０年第三季度，半導(dǎo)體制造設(shè)備對中國大陸的銷售額同比增長６３％，達到５６．２億美元。此外，從２０２０年到中國半導(dǎo)體設(shè)備，半導(dǎo)體設(shè)備市場年會，２０２０年中國大陸將超過１５０億美元，預(yù)計２０２０年國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備銷售收入約２１３億元，市場份額將達到２０％左右。其中，集成電路設(shè)備約９０億元，太陽能電池設(shè)備約１００億元，ＬＥＤ設(shè)備約２０億元。

　　半導(dǎo)體設(shè)備作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的配套產(chǎn)業(yè)，主要用于ＩＣ制造和ＩＣ密封測試。其中，ＩＣ制造包括晶圓制造、晶圓加工設(shè)備；ＩＣ密封檢測主要用于采購，包括揀取、檢測、粘接、粘接等環(huán)節(jié)。目前，我國半導(dǎo)體設(shè)備的國產(chǎn)生產(chǎn)不足２０％，國內(nèi)市場被國外巨頭壟斷。

　　２０１９年，光伏設(shè)備占我國半導(dǎo)體設(shè)備銷售額的４５％，ＩＣ設(shè)備占４４％，ＬＥＤ設(shè)備占９％，其他設(shè)備占２％。至于ＴＯＰ１０，中國ＴＯＰ１０半導(dǎo)體設(shè)備銷售部門２０１９年的銷售收入為１４３．４３億元，比２０１８年增長５１．１％。２０１９年，半導(dǎo)體設(shè)備單位銷售收入前１０名占４７家半導(dǎo)體設(shè)備制造商總銷售收入的８８．６％。

　　目前，在國家重大科技項目的支持下，集成電路１２寸、１４納米工藝的主要工藝設(shè)備（介質(zhì)蝕刻機、ＰＶＤ、單片機退火、垂直氧化爐、ＰＥＣＶＤ、ＬＰＣＶＤ、ＡＬＤ、ＣＭＰ、清洗機）已進入量產(chǎn)線。７．納米材料蝕刻機也進入了國際ＩＣ生產(chǎn)線，為高端ＩＣ設(shè)備的進一步推廣應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。此外，ＩＣ晶圓生產(chǎn)線設(shè)備國產(chǎn)化速度加快，成為集成電路設(shè)備制造商新的增長點。其中新建的８寸集成電路特色工藝生產(chǎn)線（上海吉塔一期、北京延?xùn)|一期）設(shè)備國產(chǎn)化率（按設(shè)備投資計）達到５０％以上。２０１９年，北京億堂ＩＣ芯片設(shè)備銷量上升至第二位，華海清科ＣＭＰ銷量從２０１９年２臺上升至２０１８年１２臺，純技術(shù)晶圓清洗設(shè)備也在２０１９年飆升至８０００多萬元，這些企業(yè)成為國內(nèi)ＩＣ設(shè)計的新增長點。值得一提的是，單晶硅太陽能電池設(shè)備繼續(xù)保持增長趨勢，２０１９年在國內(nèi)外光伏市場和價格低廉的互聯(lián)網(wǎng)大潮下，光伏企業(yè)加快了ＰＥＲＣ先 進生產(chǎn)線和太陽能單晶硅擴張的步伐。２０１９年，國內(nèi)晶硅太陽能電池生產(chǎn)設(shè)備銷售收入同比增長４９．１％，比２０１８年增長２１．８％。一個成熟的鑄造廠的設(shè)備投入占總設(shè)備的比重。

　　氧化：目的是形成二氧化硅薄膜。使用硅半導(dǎo)體原料的一個重要因素是容易生長出二氧化硅薄膜層，這一層絕緣材料可以組合成半導(dǎo)體摻雜阻擋層、表面絕緣層、部分絕緣組件。氣化爐市場由大型國際制造商主導(dǎo)，如Ｔｈｅｍｃｏ，ＣｅｎｔｒｏｔｈｅｒｍＴｈｅｒｍａｌＳｏｌｕｔｉｏｎｓ等。在中國，北方華創(chuàng)也提供相關(guān)設(shè)備，已被中芯國際、華力微電子、長江倉儲等廠家使用。

　　此外，中電４８研究所和青島晨光在氧化爐方面也取得了很大的進展。市場估計，今明兩年中國對氧化爐的需求約為２０億美元。光刻：晶圓鑄造中重要的工藝之一。它的工作原理是在晶圓表面覆蓋一層高度光敏的光刻膠，然后將光照射到晶圓表面的掩膜上。光刻膠發(fā)生反應(yīng)，電路圖被傳送。今天，ＡＳＭＬ是領(lǐng)先的光刻公司。此外，德國的ＳＵＳＳ、日本的尼康、美國的Ｕｌｔｒａｔｅｃｈ也有很強的實力。另一方面，國內(nèi)有很多光刻機制造商，如上海微電子股份有限公司、中國電子科技集團公司４５研究所等。但電子科技大學(xué)的主要技術(shù)在６５ｎｍ－２８ｎｍ之間，遠遠落后于國際大型工廠的實力。中國對光刻機的需求預(yù)計今年將達到３８億美元，明年將達到５１億美元。蝕刻：通過光刻膠暴露的區(qū)域去除晶圓片的頂層的過程。主要分為濕法蝕刻和干法蝕刻兩大類。簡單地說，濕法蝕刻被限制在２微米以上的圖形尺寸，而干法蝕刻用于精細(xì)的高級電路。蝕刻機的主要國際供應(yīng)商有：應(yīng)用材料、林業(yè)研究等。中國的技術(shù)正在慢慢迎頭趕上。由中國微芯片自主研發(fā)的５ｎｍ等離子蝕刻機，將在首條５ｎｍ工藝生產(chǎn)線上使用，并已通過臺積電（２３３０－ＴＷ）驗證。北方華創(chuàng)是１４ｎｍ技術(shù)的突破。