半導(dǎo)體水基清洗劑主要用于清洗表面沾污有石蠟、油脂和油脂類高分子化合物以及表面沾污有金屬原子和金屬離子等。在半導(dǎo)體分立器件和中、小規(guī)模集成電路中能夠完全代替?zhèn)鹘y(tǒng)半導(dǎo)體清洗工藝中使用的清洗液。

1.產(chǎn)品用途

半導(dǎo)體水基清洗劑主要用于清洗被石蠟、油脂和油脂聚合物化合物污染的表面，以及被金屬原子和金屬離子污染的表面。它可以完全替代半導(dǎo)體分立器件和中小型集成電路中傳統(tǒng)半導(dǎo)體清洗工藝中使用的清洗液。

2.產(chǎn)品特點(diǎn)

該清洗劑的清洗效果相當(dāng)于或略優(yōu)于傳統(tǒng)清洗工藝，但成本大大降低，僅為傳統(tǒng)清洗工藝成本的10~30%。無 毒、無腐蝕性，對(duì)人體無傷害，對(duì)環(huán)境無害，經(jīng)濟(jì)效益顯著。

3.使用過程

配制清洗液時(shí)，將去離子水加熱至40-60℃，但不超過60℃。也可以用室溫去離子水配制。然后按照以下體積比進(jìn)行準(zhǔn)備。水基清洗劑：去離子水=1:19。將準(zhǔn)備好的水基清洗劑倒入石英杯中。清洗液應(yīng)浸入硅片或晶體中。然后將石英杯放入超聲波清洗設(shè)備中（應(yīng)向槽中加入適量去離子水）進(jìn)行超聲波清洗約5分鐘，倒出清洗液，然后用熱去離子水沖洗約5分鐘以進(jìn)行清洗。

4.注意事項(xiàng)

這個(gè)產(chǎn)品是堿性的。如果本產(chǎn)品不小心濺到皮膚上，請(qǐng)立即用清水沖洗。如病情嚴(yán)重，應(yīng)及時(shí)就醫(yī)。

5.包裝儲(chǔ)存

塑料桶包裝，可根據(jù)客戶要求。儲(chǔ)存于陰涼通風(fēng)的倉庫內(nèi)。