半導(dǎo)體所需材料：制造產(chǎn)業(yè)鏈的材料有啥？鯤鵬精密智能科技來給大家分享介紹一下吧！

拋光材料：一般指的是半導(dǎo)體材料的CMP拋光過程中使用的化學(xué)機(jī)械拋光材料，CMP拋光是實(shí)現(xiàn)晶圓整體均勻平坦的關(guān)鍵工藝。

拋光材料一般可以分為拋光墊、拋光液、調(diào)節(jié)器和清潔劑，其中前兩者非常關(guān)鍵。拋光墊的材質(zhì)一般為聚氨酯或含飽和聚氨酯的聚酯，拋光液一般由超細(xì)固體顆粒磨料劑(如納米二氧化硅、氧化鋁顆粒等)、表面活性劑、穩(wěn)定劑、氧化劑等組成。

光致抗蝕劑：光刻膠，也稱光刻膠，是一種對光敏感的液體混合物。其組成包括:光引發(fā)劑(包括光敏劑、產(chǎn)生光酸劑)、光刻膠樹脂、單體、溶劑等助劑。光刻膠可以通過光化學(xué)反應(yīng)、曝光、顯影等光刻工藝，將所需的精細(xì)圖形從掩模(掩模)上轉(zhuǎn)移到待加工的基片上。這里加工的基板根據(jù)應(yīng)用場景，可以是集成電路材料、顯示面板材料(LCD)或印刷電路板(PCB)。根據(jù)不同的化學(xué)反應(yīng)原理，光刻膠可分為正極光刻膠和負(fù)極光刻膠。

就技術(shù)難度而言:PCB光刻膠< LCD光刻膠<半導(dǎo)體光刻膠;本地化的比例也越來越低。<>

光刻膠屬于微電子化學(xué)工業(yè)，是典型的技術(shù)密集型產(chǎn)業(yè)。從事微電子化工業(yè)務(wù)，必須具備與電子工業(yè)前沿發(fā)展相匹配的關(guān)鍵生產(chǎn)技術(shù)，如與生產(chǎn)過程相匹配的混合技術(shù)、分離技術(shù)、凈化技術(shù)、分析檢測技術(shù)、環(huán)境處理與監(jiān)測技術(shù)等。光刻膠的技術(shù)壁壘包括配方技術(shù)、質(zhì)量控制技術(shù)和原料技術(shù)。配方技術(shù)是光刻膠功能的核心，質(zhì)量控制技術(shù)可以保證光刻膠性能的穩(wěn)定，而優(yōu)質(zhì)的原材料是光刻膠性能的基礎(chǔ)。

面具版本：該行業(yè)又稱MASK、MASK、光刻MASK，英文名稱MASK或PHOTOMASK，材質(zhì):石英玻璃、金屬、鉻和光敏膠，本產(chǎn)品以石英玻璃為基片，其中的鉻鍍層在金屬和光敏膠上，成為一種感光材料，圖形通過電子激光設(shè)備設(shè)計出電路曝光在光敏膠上，被曝光區(qū)域顯影，在電路中形成圖案在金屬鉻上，類似膠片曝光后的光掩模模板，然后應(yīng)用到集成電路投影定位上，通過集成電路光刻機(jī)對投影電路進(jìn)行光刻，其制作和加工程序是:曝光、顯影、給光敏膠，接著應(yīng)用到光刻上。