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半導(dǎo)體產(chǎn)品清洗解決方案:等離子清洗機(jī)問題

2022-07-25 00:00:00
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  半導(dǎo)體產(chǎn)品清洗解決方案:等離子清洗機(jī)問題

  1、表面清潔解決方案:

  等離子表面清洗機(jī)用于在真空等離子室內(nèi)產(chǎn)生高能無序等離子體,用等離子轟擊被清洗產(chǎn)品的表面,達(dá)到清洗的目的。

  2、表面活化的解決方法:

  清洗機(jī)處理過的物體表面能增強(qiáng),親水性增強(qiáng),內(nèi)聚力和附著力增強(qiáng)。

  3、表面蝕刻處理方法:

  通過反應(yīng)氣體等離子體對(duì)材料表面進(jìn)行選擇性蝕刻,將被腐蝕的材料轉(zhuǎn)化為氣相,然后通過真空泵排出,使被處理材料的微觀比表面增加,材料具有良好的親水性。

  4、納米涂層處理方法:

  經(jīng)等離子表面清洗機(jī)處理技術(shù)處理后,通過等離子引導(dǎo)聚合反應(yīng)形成納米涂層。各種材料可通過表面涂層制成疏水、親水、疏油和疏油。

  5. PBC制造解決方案:

  這實(shí)際上是一種等離子刻蝕工藝,通過轟擊物體表面達(dá)到PBC去除表面膠體的目的。電路板制造商使用等離子清洗機(jī)的蝕刻系統(tǒng)來凈化和蝕刻,去除鉆孔內(nèi)的絕緣層,并提高產(chǎn)品質(zhì)量。

  6. 半導(dǎo)體/LED器件:

  等離子在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用是基于集成電路的各種元器件和連接線非常精細(xì),因此在工藝過程中極易產(chǎn)生粉塵、有機(jī)物等污染。為避免工藝中等離子引起的問題,后期在工藝中引入等離子設(shè)備進(jìn)行預(yù)處理。使用等離子清洗機(jī)是為了更好地保護(hù)我們的產(chǎn)品,并善用電氣設(shè)備去除表面有機(jī)物和雜質(zhì)。

  污染物會(huì)導(dǎo)致LED環(huán)氧樹脂注塑成型過程中氣泡形成過快,從而降低產(chǎn)品質(zhì)量和使用壽命。因此,避免在密封過程中產(chǎn)生氣泡也值得關(guān)注。采用射頻等離子清洗技術(shù),晶圓與基板結(jié)合更緊密,膠體氣泡形成量大大減少,同時(shí)散熱及出光率可顯著提升。

  7、TSP/OLED方案:

  在TSP方面:清潔觸摸屏的主要工藝,提高OCA/OCR、貼合、ACF、AR/AF鍍膜等工藝的附著力/鍍膜力,通過使用各種大氣壓等離子形式,各種玻璃和薄膜的均勻排出,使表面不受損傷,處理效果好。

  8、真空等離子噴涂解決方案:

  由于真空等離子表面清潔劑的高能量密度,幾乎所有具有穩(wěn)定熔融相的粉末都可以轉(zhuǎn)化為致密、附著力強(qiáng)的噴涂涂層,其質(zhì)量取決于噴涂粉末顆粒的影響。噴涂涂層 噴涂涂層 在工件表面噴涂涂層。真空等離子噴涂技術(shù)提高了現(xiàn)代鍍膜機(jī)的生產(chǎn)效率。

半導(dǎo)體產(chǎn)品清洗解決方案

本文網(wǎng)址:http://www.zsword.com/news/76.html

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