晶元清洗機(jī)

 應(yīng)用領(lǐng)域：

主要用于高端晶元灰塵的清洗，如下圖：

 設(shè)備特點(diǎn)：

可更換清洗吸盤，可使用4-12英寸清洗吸盤；

可根據(jù)運(yùn)行要求編制和調(diào)整運(yùn)行程序，并可自行編制設(shè)備運(yùn)行過(guò)程、清洗時(shí)間及各種參數(shù)；

實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)和參數(shù)，自動(dòng)門設(shè)置安 全柵，確保安 全運(yùn)行；

采用真空吸附清洗盤，使硅片夾具的取放更加安 全方便；

擺臂清洗，清洗范圍可編輯，適用范圍廣，無(wú)清洗盲區(qū)，無(wú)二次污染，清洗效果更好；

設(shè)備清洗間全封閉，并配備自動(dòng)擋水環(huán)，有效防止二次污染；

高速離心設(shè)計(jì)，轉(zhuǎn)速可調(diào)100-2000r/min；

配備獨(dú)特的靜電消 除裝置，達(dá)到較好的輔助清洗效果，可選用氮?dú)猓?/p>

設(shè)備配有大面積透明觀察窗；

節(jié)省空間設(shè)計(jì)，寬度減小，結(jié)構(gòu)緊湊，占用空間小；

整機(jī)鏡面不銹鋼本體耐酸堿，對(duì)工作環(huán)境無(wú)污染，鏡殼易于維護(hù)。

 清洗工藝：

 放入物料  —— 一鍵清洗開始，安 全門自動(dòng)關(guān)閉 ——  二流體清洗 —— 離心脫水（去靜電離子風(fēng)與加熱腔體輔助干燥) —— 清洗完畢 —— 報(bào)警提示 —— 玻璃門自動(dòng)打開。

采用高速離心設(shè)計(jì)，主要使用于4-12英寸的硅晶圓片的精密清洗；搭配二流體清洗、靜電消 除/氮?dú)?、高速離心等裝置，使被清洗件達(dá)到干燥、潔凈的目的。

技術(shù)參數(shù)：